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用正交試驗法，對影響7075鋁合金微弧氧化膜層致密性的電參數進行優(yōu)化。以膜層厚度和孔隙率作為指標，以正向電壓、電流密度、正占空比和脈沖頻率作為因素設計，特種加工鋁合金微弧氧化技術，并開展了四因素三水平的正交試驗。使用掃描電鏡對正交試驗后微弧氧化陶瓷膜層的表面形貌進行了觀察；利用Image J軟件對陶瓷膜層的膜層厚度及孔隙率進行測量。
結果表明：影響微弧氧化陶瓷膜層厚度的電參數順序從大到小依次為：正向電壓〉電流密度〉正占空比〉脈沖頻率；
影響微弧氧化膜層孔隙率的電參數順序從大到小依次為：正向電壓〉電流密度〉正占空比〉脈沖頻率；
采用綜合平衡法確定的電參數的優(yōu)化結果為：正向電壓550V、電流密度8 A/dm^2、正占空比20%、頻率400Hz。
你知道微弧氧化技術工藝是怎樣一個流程嗎？接下來日照微弧技術有限公司給大家著重介紹一下微弧氧化技術工藝的流程，表面微弧氧化加工，一起來看一下吧
微弧氧化技術工藝流程主要包含三個部分：1.鋁基材料的前處理，2.微弧氧化，3.后處理三部分
微弧氧化技術其工藝流程如下：鋁基工件→化學除油→清洗→微弧氧化→清洗→后處理→成品檢驗。
溫馨提示：以上是關于微弧氧化加工-日照微弧氧化生產線-微弧氧化設備加工的詳細介紹，產品由日照微弧技術有限公司為您提供，如果您對日照微弧技術有限公司產品信息感興趣可以聯系供應商或者讓供應商主動聯系您 ，您也可以查看更多與行業(yè)專用設備相關的產品！
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第7年
